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行业概述

半导体制造涉及一系列不同工艺步骤，在半导体的制造工艺中，器件的不良率很大程度由污染造成。在超纯水、电子化学品、电子特气、硅片等各个环节，均需进行严格的环境污染管控及污染物检测。如果您需要测量半导体制造中所用化学品中的金属杂质，或者测试硅晶片或最终元件中的金属污染物，6165cc金沙总站检测中心为您提供灵敏、稳定、强健的分析方法满足您的需求。 6165cc金沙总站检测中心为半导体行业中各种样品的痕量元素分析提供解决方案，这些样品包括单晶硅片、太阳能光伏硅片、高纯制程化学品、超纯水、有机试剂和光阻材料等。6165cc金沙总站检测中心的研发和技术支持团队提供了专门用于满足半导体行业需求的单四极杆和串联四极杆 ICP-MS 系统。

行业解决方案

多晶硅基体金属杂质检测

电子级多晶硅金属杂质含量是评价其产品质量的重要指标之一，其杂质含量的高低直接影响下游晶圆制造产品质量，所以对其金属杂质含量的控制至关重要。6165cc金沙总站检测中心提供可靠、易用的 ICP-MS产品，拥有良好的精度，可实现多晶硅金属元素杂质准确分析，确保制造商始终能够生产出高品质的产品。

硅片表面金属杂质检测

硅片是半导体制造业的基础材料，硅片表面极其少量的金属杂质元素污染都可能造成器件的功能丧失或者可靠性变差，随着半导体制程的不断提高，对金属离子污染物的控制也越来越严格。6165cc金沙总站检测中心提供了融合稳定、可靠、高灵敏度的ICP-MS产品，帮助半导体制造商在生产过程中执行检测并减少污染，即使在高基质环境下，也可对晶圆制造的每个阶段中的金属杂质类型、来源和含量进行准确的检测。此外，6165cc金沙总站检测中心的经验丰富的工程师们将作为硅片生产企业及Fab工厂的坚实后盾，提供多方位技术支持。

湿电子化学品金属杂质检测

在半导体工业中，严格控制半导体器件生产过程中所使用的湿电子化学品中的金属杂质，对于实现所需的产品性能和产量至关重要。随着半导体器件性能的持续提高，对杂质的控制要求也更加严格。 6165cc金沙总站检测中心研发生产的稳定、可靠的ICP-MS产品，可为湿电子化学品金属杂质含量检测提供有效手段。

金属污染物在线监测

6165cc金沙总站检测中心的 ICP-MS 产品可与多家供应商的自动化在线半导体制程化学品监测系统集成。在化学品供应中心、分配过程以及使用过程中，对制程化学品中的金属杂质进行监测。实时在线监测能够在工艺的各阶段迅速检测到金属污染，从而完成快速评估正等待从贮罐卸载的化学品的质量的检测和生产需求。

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